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Le système plasma MYL10 permet un traitement de surface à haut débit pour les grilles de connexion.
• Système plasma d'argon à pression atmosphérique
• Traitement plasma en ligne par lots d'une largeur de 100 mm ; offre une efficacité 2 à 5 fois supérieure et des coûts d'exploitation inférieurs de plus de 30 % par rapport aux méthodes traditionnelles ; débit maximum de 1 800 UPH
• Production à haut débit et très flexible : capable de traiter des grilles de connexion de différentes tailles, y compris le traitement simultané de différentes tailles
• Plasma 100% neutre : sûr et doux pour les composants électroniques sensibles ; ne génère aucun bombardement de plasma, électricité statique, étincelles, arcs, poussière, chaleur élevée, ondulations de surface ou rayonnement UV, garantissant ainsi l'absence de dommages au produit
• Processus chimiques multiples : le processus O2 élimine les contaminants organiques ; Le processus H2 élimine les oxydes métalliques et active les surfaces du produit
• Aucune contamination particulaire ou liquide générée sur le produit
| Paramètres de base | MYL10 |
| Exigences d'alimentation | CA 200 ~ 240 V, 5 kW, 23 A, 50/60 Hz |
| Exigences en matière de pression atmosphérique | 90 psi (6 bars) |
| Dimensions | 1500x2100x2100mm |
| Poids | 2500 kg |
| Normes de certification | CE, SEMI-S2 |
| Précision du positionnement | XY : ±20 µm à 3σ ; Z : ±5 µm à 3σ |
| Répétabilité de l'axe XYZ | XY : ±15 µm à 3σ ; Z : ±5 µm à 3σ |
| Vitesse maximale | 1000 mm/s (XY) |
| Accélération | 1,0 g |
| Système d'entraînement | Servomoteur CA |
| Paramètres de la plate-forme de travail | |
| Type de rail | Rail |
| Nombre de rails | 4 |
| Gamme d'épaisseur du produit | 0,1 à 1 mm |
| Déplacement sur l'axe Z | 100 millimètres |
| Max. Débit (UPH) | 1800 |
| Protocole de communication | SMEMA |
| Plage de travail | |
| Zone de traitement au plasma (L × P) | 300 à 1 320 mm |
| Méthode de traitement au plasma | Processus O2 pour éliminer les contaminants organiques Procédé H2 pour éliminer les oxydes métalliques |
| Exigences du système plasma | |
| Puissance RF | 600 W à 27,12 MHz |
| Gaz plasma principal | Argon |
| Gaz de procédé | O2, N2 ou H2 |
| Plage de pression d'alimentation en gaz | 40 à 100 psi (0,3 à 0,7 MPa) |
Adresse
5e étage, bâtiment 2, n° 182, route Chang'an Xi'an, ville de Chang'an, Dongguan, province du Guangdong, Chine.
Tél
